[3] 清洗流程的操作规范
(A) 新投片的清洗
(1) 用丙酮(ACE)、异丙醇(IPA)、去离子(DI)水依次进行超声清洗超声设备内槽、烧杯、花篮、卡塞及样品盒；
(2) 在二个超声设备的内槽分布倒入 2000 - 4000 ml的丙酮和异丙醇溶液，具体的溶液体积由内槽的容积来定，保证溶液水平面在花篮上平面以上；在一个烧杯中倒入2000 ml丙酮溶液；记录溶液 更换日期，按每2000 ml溶液清洗250片晶片的要求规划溶液的清洗次数；
(3) 将晶片用花篮盛放并将其置于丙酮的内槽中，设置超声的温度60°C，并计时超声清洗晶片10分钟，用盖将内槽封闭，并记录溶液累计使用片数
(4) 将放有晶片的花篮取出冲水5分钟；
(5) 将花篮置于异丙醇中,设置溶液温度60°C，记时超声清洗晶片10分钟，用盖将内槽封闭，记录溶液累计使用片数；
(5) 将放有晶片的花篮取出冲水5分钟；
(6) 将放有晶片的花篮置于已配制好的硫酸和双氧水(共1200 ml, H2SO4 : H2O2 =3:1)溶液中，计时10分钟，并记录溶液使用累计片数；保持溶液的温度为90°C。如果溶液不是新配溶液，需向溶液 中按溶液的1/3加入双氧水溶液；
(7) 将放有晶片的花篮取出冲水5分钟；
(8) 将晶片从花篮中取出,放置到特制的卡塞中，将放有晶片的卡塞置于兆声波设备内槽中，在60°C兆声清洗10分钟；
(9) 将放有晶片的卡塞取出冲水10分钟；
(10) 将放有晶片的卡塞放入甩干机中，烘干。
(B) 返工品1【涂胶前返工片清洗】清洗
步骤仅为(A)流程中的 (6)-(10)。
(C) 返工品2【残余光刻胶返工片清洗】清洗
步骤是在进行(A)之前，将返工品放置于盛有费丙酮的烧杯中10分钟，其他步骤与(A)相同。
【注意事项】
(1)如有顽固污渍可用棉签蘸丙酮拭擦晶片后再进行清洗作业；晶片冲水前需将水槽注满水；
(2)将花篮和卡塞放置特定的位置，如清洗机的通风橱中，尽量不要手接触花篮或卡塞的边缘，防止样品被污染；
(3)丙酮、异丙醇均为有毒物质，操作前的准备工作一定要做好。操作时一定要戴好口罩和手套；
(4)溶液的配置一定要按相应的比例和容量，保证晶片完全浸泡在溶液中，清洗机的外窗门一定要关闭；
(5)清洗后的晶片倒入清洗过的样品盒前，也需要用氮气抢进行吹净样品盒；
(6) 在样品盒上贴标签时，注意防止标签上的胶水污染晶片；
(7)未经培训，不得进行硫酸溶液配制作业；硫酸溶液使用及废液回收需遵循《硫酸溶液安全使用规范》